光刻膠膜厚儀的原理是什么？

光刻膠膜厚儀的原理主要基于光學干涉現象。當光源發出特定波長的光波垂直或傾斜照射到光刻膠表面時，部分光波會被反射，部分則會透射進入光刻膠內部。在光刻膠的上下表面之間，光波會發生多次反射和透射，形成干涉現象。這種干涉現象會導致反射光波的相位發生變化，相位差的大小取決于光刻膠的厚度和折射率。膜厚儀通過精確測量這些反射光波的相位差，并利用特定的算法進行處理，就能夠準確地計算出光刻膠的膜厚值。在實際應用中，光刻膠膜厚儀通常會采用分光處理的方式，收集反射光經過分光后的光強度數據，并與已知的模型或標準數據進行比較，從而得出光刻膠的膜厚值。此外，有些光刻膠膜厚儀還會利用傾斜照射的方法，測量表面反射光的角度分布，進一步提高測量的精度和可靠性。光刻膠膜厚儀具有非接觸式測量的特點，因此在測量過程中不會破壞樣品。同時，由于其測量速度快、精度高，被廣泛應用于半導體制造、生物醫學原件、微電子以及液晶顯示器等領域，對于保證產品質量和提高生產效率具有重要意義。