渦輪分子泵是一種利用高速旋轉葉片與氣體分子動量交換原理工作的真空泵，主要應用于需要快速獲得高真空或超高真空環境的領域。其優勢在于清潔無油、抽速快、極限真空度高（可達10^-7至10^-11 Pa），是現代精密制造和科學研究的關鍵設備。在半導體工業中，渦輪分子泵是芯片制造的裝備。光刻機、離子注入機、化學氣相沉積設備均需依賴其快速抽除反應腔體內的氣體分子，確保納米級電路刻蝕過程的超凈環境。尤其在極紫外光刻（EUV）技術中，渦輪泵需要維持10^-4 Pa量級的真空度，以避免光路中的氣體分子散射13.5nm極紫外光。科研領域方面，渦輪分子泵廣泛搭載于電子顯微鏡、質譜儀、同步輻射裝置等精密儀器。透射電鏡（TEM）需在10^-5 Pa真空下運行，防止殘余氣體干擾電子束；粒子的束流管道更需要渦輪泵維持超高真空，將粒子與氣體分子的碰撞概率降至?Ｔ詡撲閶芯恐校急忍氐鬧票竿氬豢新直么叢斕慕嗑徽嬋棧肪場?/p>航天航空領域利用其進行?日嬋詹饈裕?模擬??環境。組件需在10^-3 Pa真空罐中驗證熱控系統性能，渦輪泵的高抽速可快速排出測試艙內氣體。同步軌道的離子推進器燃料貯存系統也依賴渦輪泵維持長期穩定真空。相較于油擴散泵，渦輪分子泵無需工作介質，避免了碳氫化合物污染，特別適合薄膜沉積、表面分析等對潔凈度要求苛刻的工藝。其多級復合結構通過交替排列的轉子/定子葉列，使氣體分子產生定向流動，配合磁懸浮軸承技術，轉速可達每分鐘數萬轉，成為現代高真空系統的組件。