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負占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，利用自制的多功能微弧氧化設備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減小；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結構，微弧氧化生產線好處，隨dc的增大，膜層表面微孔數量減少，孔徑增大且有裂紋產生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言，微弧氧化生產線方案，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強，耐蝕性有一定程度的減弱。
電鍍和陽極氧化有什么區別？
處理原理不同：
電鍍是電鍍材料作為陰極，陽極氧化帶處理材料作為陽極。電鍍是由于電荷效應，金屬陽極離子向陰極移動，并在陰極得到電子而沉積在待鍍材料上。同時陽極的金屬溶解，不斷補充電解液中的金屬離子。
陽極氧化是利用鋁合金其易氧化之特性，藉電化學方法控制氧化層之生成，以防止鋁材進一步氧化，同時增加表面的機械性。一般來講陽極都是用鋁或者鋁合金當作陽極，陰極則選取鉛板，把鋁和鉛板一起放在水溶液，這里面有硫酸、草酸、鉻酸等，進行電解，讓鋁和鉛板的表面形成一種氧化膜。在這些酸中，為廣泛的是用硫酸進行的陽極氧化。
微弧氧化技術工藝特點
微弧氧化從普通陽極氧化發展而來，其裝置包括專門用的高壓電源、氧化槽、冷卻系統和攪拌系統。氧化液大多采用堿性溶液，對環境污染小。溶液溫度以室溫為宜，溫度變化范圍較寬。溶液溫度對微弧氧化的影響比陽極氧化小得多，微弧氧化生產線，因為微弧區燒結溫度達幾千度，遠高于槽溫，而陽極氧化要求溶液溫度較低，特別是硬質陽極氧化對溶液溫度限制更為嚴格。微弧氧化工件的形狀可以較復雜，部分內表面也可處理。此外，微弧氧化工藝流程比陽極氧化簡單得多，也是此技術工藝特點之一。
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第7年
