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沈陽東創貴金屬材料有限公司
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超純金屬，指的化學雜質和物理雜質 (晶體缺陷) 含量的金屬。目前主要以化學雜質的含量為標準，金銀濕法處理技術，常以雜質在金屬中總含 量的百萬分之幾表示 。超純金屬是相對高純度的金屬，天津金銀濕法處理，一般指金屬純度達到純度9以上的金屬，物理雜質的概念才是有意義的。
材料的純度對其性能，金銀濕法處理廠，特別是微電子學、光電子學性能影響很大，現代高技術產業要求制備出超純金屬以利于制作器件。
濺射靶材ITO靶材的生產工藝 ITO靶材的生產工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好，但設備投入高，生產成本高，產品的缺氧率高。
各種類型的濺射薄膜材料在半導體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。20世紀90年代以來，濺射靶材及濺射技術的同步發展，金銀濕法處理設備價格，極大地滿足了各種新型電子元器件發展的需求。例如，在半導體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導體薄膜代替鋁膜布線。
在被濺射的靶極（陰極）與陽極之間加一個正交磁場和電場，在高真空室中充入所需要的惰性氣體（通常為Ar氣），磁鐵在靶材料表面形成250～350高斯的磁場，同高壓電場組成正交電磁場。
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第9年
