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日照微弧技術有限公司
主營：微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微弧氧化膜具有特殊的多孔質結構，鎂合金微弧氧化表面要求，使得它在金屬材料功能化方面有著巨大的應用潛力，如在微弧氧化膜的細孔中填充潤滑性物質，可以作為性能優良的減摩抗磨材料。影響微弧氧化膜生長和性能的因素很多，有待于系統而深入地研究，以弄清楚各因素對膜性能的影響規律，使得不同性能要求下的微弧氧化工藝更具有可重現性。 微弧氧化電源、微弧氧化技術、微弧氧化生產線
微弧氧化技術的特點
1、大幅度地提高了材料的表面硬度，顯微硬度在 1000 至 2000hv ，高可達 3000hv ，鎂合金微弧氧化生產線，可與硬質合金相媲美，大大超過熱處理后的高碳鋼、高合金鋼和高速工具鋼的硬度；
2、有良好的絕緣性能，絕緣電阻可達 100m ω。
3、溶液為環保型，符合環保排放要求。
4、工藝穩定且可靠 ， 設備工藝簡單， 。
5、 反應在常溫下進行，操作方便，易于掌握。
陽極氧化膜層與微弧氧化膜層的區別是什么？
由微弧氧化膜層的生長機理可知，陽極氧化是微弧氧化的初級階段。陽極氧化發生的是化學反應，而微弧氧化除化學反應外，還伴隨有電化學、高溫等離子體等反應。其膜層由于是在高溫下生成（瞬間高溫度超過3K攝氏度），膜層與基體間為冶金結合，因此與基體結合良好。另外，鎂合金微弧氧化，膜層為氧化物瞬間冷凝形成，鋁 鎂合金微弧氧化設備，具有較高的致密度和硬度以及良好的耐腐蝕性能，良好的絕緣性等。但歸跟到底，微弧氧化膜層與陽極氧化膜層醉的的差別在于：膜與基體的結合力，膜層內部致密性及相結構。這幾種差別引起了微弧氧化膜層與陽極氧化膜層其它方面的性能差異。
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第7年
