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蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司
主營：專業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料
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蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。
顯影液常見問題
a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。
b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側(cè)壁不垂直。由顯影時間不足造成。
c、過度顯影（Over Development）。靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，顯影液配制，形成臺階。由顯影時間太長造成。
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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
甘氨酸是作用極慢的，陜西顯影液，可洗出軟影調(diào)低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細部，配制顯影液，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，顯影液濃度，而易溶于堿性溶液中。長期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。
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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
把很少量防灰霧物質(zhì)加進顯影液中，由于急劇增加素離子的濃度，而阻止顯影，降低感光材料的感光度并緩慢增加影像反差。化鉀可以和各種顯影物質(zhì)發(fā)生作用。對化鉀敏感的是對二元胺，其次是二酚、甘氨酸、對二氨基酚、米吐爾，后是阿米土耳。
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第7年
