精鋁經過區熔提純,金銀泥處理車間設備加工,只能達到5 的高純鋁,但如使用在有機物電解液中進行電解,可將鋁提純到99.9995%,金銀泥處理車間設備價格,并可除去有不利分配系數的雜質,然后進行區熔提純數次,就能達到接近于 7 的純度,雜質總含量
制備化合物半導體的金屬如銦、磷,可利用氯化物精餾氫還原、電解精煉、區熔及拉晶提純等方法制備超純金屬,總金屬雜質含量為 0.1~1ppm。其他金屬如銀、金、鎘、、鉑等也能達到≥6 的水平。
在儲存技術方面,高密度、大容量硬盤的發展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展,用它制造的磁光盤具有存儲容量大,壽命長,可反復無接觸擦寫的特點。如今開發出來的磁光盤,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復合膜結構,TbFeCo/AI結構的Kerr旋轉角達到58,而TbFeCofFa則可以接近0.8。經過研究發現,福建金銀泥處理車間設備,低磁導率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強度。
濺射技術:濺射是制備薄膜材料的主要技術之一,它利用離子源產生的離子,在真空中經過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
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